激光光源上合作研发上已经成熟了，这才有了量产第三代光源光刻机的技巧基础。

现在瑞星科技公司试制的光刻机由于采用了沉浸式光刻技巧，大大地缩短了光源的波长，光刻机支撑的极限制程工艺可以达到65纳米。

也就是假如瑞星科技公司在控制氟化氩光源后，极限制程工艺可以达到22纳米！

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